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    Online-Ressource
    Online-Ressource
    Cambridge, United Kingdom ; New York, NY, USA ; Port Melbourne, Australia ; Delhi, India ; Singapore : Cambridge University Press
    UID:
    b3kat_BV043997662
    Umfang: 1 Online-Ressource (xix, 634 Seiten) , Illustrationen
    Ausgabe: Second edition
    ISBN: 9781107477629 , 9781316811023
    Inhalt: With this fully updated second edition, readers will gain a detailed understanding of the physics and applications of modern X-ray and EUV radiation sources. Taking into account the most recent improvements in capabilities, coverage is expanded to include new chapters on free electron lasers (FELs), laser high harmonic generation (HHG), X-ray and EUV optics, and nanoscale imaging; a completely revised chapter on spatial and temporal coherence; and extensive discussion of the generation and applications of femtosecond and attosecond techniques. Readers will be guided step by step through the mathematics of each topic, with over 300 figures, 50 reference tables and 600 equations enabling easy understanding of key concepts. Homework problems, a solutions manual for instructors, and links to YouTube lectures accompany the book online. This is the 'go-to' guide for graduate students, researchers and industry practitioners interested in X-ray and EUV interaction with matter
    Anmerkung: Radiation and scattering at EUV and x-ray wavelengths -- Wave propagation and refractive index at x-ray and EUV wavelengths -- Coherence at short wavelengths -- Synchrotron radiation -- X-ray and EUV free electron lasers -- Laser high harmonic generation -- Physics of hot dense plasmas -- Extreme ultraviolet and soft x-ray lasers -- X-ray and extreme ultraviolet optics -- X-ray and EUV imaging
    Weitere Ausg.: Erscheint auch als Druck-Ausgabe, Hardcover ISBN 978-1-107-06289-4
    Weitere Ausg.: Erscheint auch als Druck-Ausgabe, Paperback ISBN 978-1-107-63636-1
    Sprache: Englisch
    Fachgebiete: Physik
    RVK:
    RVK:
    RVK:
    Schlagwort(e): Weiche Röntgenstrahlung ; Extremes Ultraviolett
    URL: Volltext  (URL des Erstveröffentlichers)
    URL: Volltext  (URL des Erstveröffentlichers)
    Bibliothek Standort Signatur Band/Heft/Jahr Verfügbarkeit
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  • 2
    Buch
    Buch
    Cambridge [u.a.] : Cambridge Univ. Press
    UID:
    b3kat_BV012949824
    Umfang: XVI, 470 S. , Ill., graph. Darst.
    ISBN: 0521652146
    Sprache: Englisch
    Fachgebiete: Physik
    RVK:
    Schlagwort(e): Weiche Röntgenstrahlung ; Extremes Ultraviolett
    Bibliothek Standort Signatur Band/Heft/Jahr Verfügbarkeit
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  • 3
    Online-Ressource
    Online-Ressource
    Cambridge : Cambridge University Press
    UID:
    gbv_883405261
    Umfang: 1 Online-Ressource (xvi, 470 pages) , digital, PDF file(s)
    ISBN: 9781139164429
    Inhalt: This detailed, comprehensive book describes the fundamental properties of soft X-rays and extreme ultraviolet (EUV) radiation and discusses their applications in a wide variety of fields, including EUV lithography for semiconductor chip manufacture and soft X-ray biomicroscopy. The author begins by presenting the relevant basic principles such as radiation and scattering, wave propagation, diffraction, and coherence. He then goes on to examine a broad range of phenomena and applications. The topics covered include spectromicroscopy, EUV astronomy, synchrotron radiation, and soft X-ray lasers. The author also provides a wealth of useful reference material such as electron binding energies, characteristic emission lines and photo-absorption cross-sections. The book will be of great interest to graduate students and researchers in engineering, physics, chemistry, and the life sciences. It will also appeal to practising engineers involved in semiconductor fabrication and materials science
    Anmerkung: Title from publisher's bibliographic system (viewed on 05 Oct 2015)
    Weitere Ausg.: ISBN 9780521652148
    Weitere Ausg.: ISBN 9780521029971
    Weitere Ausg.: Print version ISBN 9780521652148
    Sprache: Englisch
    Bibliothek Standort Signatur Band/Heft/Jahr Verfügbarkeit
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