Format:
114 S.
,
Ill., graph. Darst.
Edition:
[Mikrofiche-Ausg.]
Edition:
Mikroform-Ausgabe 2000 2 Mikrofiches : 24x Mikrofiche-Ausg.:
Note:
Zürich, Techn. Hochsch., Diss., 2000. - Zsfassung in engl. und dt. Sprache
Additional Edition:
Reproduktion von Rosenblad, Carsten Development of a plasma enhanced chemical vapour deposition system 2000
Language:
English
Keywords:
Heterostruktur
;
Germanium
;
Silicium
;
LEPECVD-Verfahren
;
Hochschulschrift
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