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    Online-Ressource
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    Industrial plasma engineering *Vol. 2* (2001)
    Bristol : Institute of Physics Pub
    Details
    UID:
    gbv_086055984
    Umfang: xi, 645 p , ill., 1 map , 24 cm
    Ausgabe: Reproduktion Boulder, Colo NetLibrary 2004 Online-Ressource E-Books von NetLibrary
    ISBN: 0585488339 , 9780585488332
    Serie: EBSCOhost eBook Collection
    Anmerkung: Includes bibliographical references and index , Electronic reproduction, Boulder, Colo : NetLibrary, 2004
    Weitere Ausg.: ISBN 0750305452
    Weitere Ausg.: ISBN 0750305444
    Weitere Ausg.: Erscheint auch als Druck-Ausgabe Industrial plasma engineering. Vol. 2, Applications to nonthermal plasma processing
    Sprache: Englisch
    Schlagwort(e): Plasmatechnik ; Plasmatechnik ; Electronic books.
    URL: Volltext  (Deutschlandweit zugänglich)
    URL: Volltext  (Deutschlandweit zugänglich)
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    Applications to nonthermal plasma processing / (2001)
    Bristol ; : Institute of Physics Pub.,
    Details
    UID:
    almafu_9958092448502883
    Umfang: 1 online resource (657 p.)
    ISBN: 1-000-68774-0 , 0-367-45514-5 , 0-429-14411-3 , 1-280-65037-0 , 9786610650378 , 1-4200-3412-X
    Serie: Industrial plasma engineering ; 2
    Inhalt: This text is written for physicists and engineers familiar with the principles of industrial plasma engineering, and who need to obtain a thorough understanding of how plasma applications may be used in industry. It contains comprehensive references to primary research, and to industrial patents.
    Anmerkung: Description based upon print version of record. , Contents; Preface to Volume 2; 14. Surface Interactions in Plasma Processing; 15. Atmospheric Pressure Plasma Sources; 16. Vacuum Plasma Sources; 17. Plasma Reactors for Plasma Processing; 18. Specialized Techniques and Devices for Plasma Processing; 19. Parametric Plasma Effects On Plasma Processing; 20. Diagnostics for Plasma Processing; 21. Plasma Treatment of Surfaces; 22. Surface Modification by Implantation and Diffusion; 23. Thin-Film Deposition by Evaporative Condensation and Sputtering; 24. Plasma Chemical Vapor Deposition (PCVD); 25. Plasma Etching; Appendices; Index , English
    Weitere Ausg.: ISBN 0-585-48833-9
    Weitere Ausg.: ISBN 0-7503-0544-4
    Sprache: Englisch
    DOI: 10.1201/9781420034127
    Bibliothek Standort Signatur Band/Heft/Jahr Verfügbarkeit
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    Bristol [u.a.] : Institute of Physics Publ.
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    UID:
    b3kat_BV013188322
    Umfang: XI, 645 S. , graph. Darst.
    ISBN: 0750305444 , 0750305452
    In: 2
    Sprache: Englisch
    Bibliothek Standort Signatur Band/Heft/Jahr Verfügbarkeit
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