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  • 1
    UID:
    almafu_9960073686402883
    Umfang: 1 online resource (322 p.)
    ISBN: 9780081000571 , 008100057X
    Serie: Woodhead Publishing Series in Electronic and Optical Materials ; Number 88
    Anmerkung: Description based upon print version of record. , 1.6 Application of AFM for material characterization1.6.1 Surface properties measurement; 1.6.2 AFM measurements for hardness and modulus measurements; 1.6.3 AFM measurements for damage characterizations; 1.6.4 AFM measurements for characterizations of surface treatment effects; 1.7 Conclusions; Acknowledgments; References; 2 - Scanning electron microscopy (SEM) and transmission electron microscopy (TEM) for materials characterization; 2.1 Introduction; 2.2 Why electron microscopy?; 2.2.1 Key advantages of imaging with electrons; 2.2.2 Key disadvantages of imaging with electrons , 2.3 Types of microscopes2.4 Interaction of electrons with materials; 2.4.1 Elastic versus inelastic electron scattering; 2.4.2 Signals from the specimen; 2.5 What material features can we analyze using electron microscopy?; 2.5.1 Practical electron microscopy; 2.6 Scanning electron microscopy; 2.6.1 Key features of the SEM microscope; 2.6.2 Specimen preparation; 2.6.3 SEM detectors; 2.7 Key microstructural features analyzed by SEM; 2.7.1 Specimen shape; 2.7.2 Specimen composition; 2.7.3 Surface crystallography; 2.8 Transmission electron microscopy; 2.8.1 Key features of the TEM microscope , 2.8.2 TEM specimen preparation2.9 TEM imaging modes; 2.10 TEM spectroscopy; 2.10.1 X-ray analysis in TEM (EDX); 2.10.2 Electron energy loss spectrometry; 2.11 Key applications of TEM; 2.12 Is electron microscopy a nondestructive technique?; 2.12.1 Specimen preparation; 2.12.2 Specimen changes during imaging; 2.12.3 Strategies for minimizing specimen damage; 2.13 Outlook for SEM and TEM; References; 3 - X-ray microtomography for materials characterization; 3.1 Introduction; 3.2 Imaging physics; 3.2.1 X-ray microfocus tubes; 3.2.2 Interaction of hard X-rays with materials , 3.2.2.1 X-ray attenuationPhoton absorption; Compton scattering; 3.2.2.2 Phase contrast imaging; 3.2.3 X-ray detectors and imaging devices: principles, features, and common systems; 3.3 Principles of microcomputed tomography; 3.4 Geometrical considerations and data acquisition; 3.5 System design (CT methods); 3.6 Image reconstruction; 3.7 Image quality; 3.8 Radiation exposure; 3.9 Examples of important and/or frequent applications for materials characterization; 3.10 Conclusions and future trends; 3.11 Further literature; References , 4 - X-ray diffraction (XRD) techniques for materials characterization
    Weitere Ausg.: ISBN 9780081000403
    Weitere Ausg.: ISBN 0081000405
    Sprache: Englisch
    Bibliothek Standort Signatur Band/Heft/Jahr Verfügbarkeit
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  • 2
    UID:
    b3kat_BV043747331
    Umfang: xv, 303 Seiten , Illustrationen, Diagramme
    ISBN: 9780081000403
    Serie: Woodhead Publishing series in electronic and optical materials numer 88
    Weitere Ausg.: Erscheint auch als Online-Ausgabe ISBN 978-0-08-100057-1
    Sprache: Englisch
    Fachgebiete: Technik
    RVK:
    Schlagwort(e): Zerstörungsfreie Werkstoffprüfung
    Bibliothek Standort Signatur Band/Heft/Jahr Verfügbarkeit
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