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  • 1
    Online-Ressource
    Online-Ressource
    Hoboken, N.J. :Wiley-Interscience,
    UID:
    almahu_9948196676902882
    Umfang: 1 online resource (xxxv, 757 pages) : , illustrations
    Ausgabe: 2nd ed.
    ISBN: 0471724246 , 9780471724247 , 9780471720010 , 0471720011 , 0471724254 , 9780471724254
    Inhalt: "The first edition of Principles of Plasma Discharges and Materials Processing, published over a decade ago, was lauded for its complete treatment of both basic plasma physics and industrial plasma processing, quickly becoming the primary reference for students and professionals." "The Second Edition has been carefully updated and revised to reflect recent developments in the field and to further clarify the presentation of basic principles. Along with in-depth coverage of the fundamentals of plasma physics and chemistry, the authors apply basic theory to plasma discharges, including calculations of plasma parameters and the scaling of plasma parameters with control parameters." "With new chapters on dusty plasmas and the kinetic theory of discharges, graduate students and researchers in the field of plasma processing should find this new edition more valuable than ever."--Jacket.
    Anmerkung: Basic plasma equations and equilibrium -- Atomic collisions -- Plasma dynamics -- Diffusion and transport -- Direct current (DC) sheaths -- Chemical reactions and equilibrium -- Molecular collisions -- Chemical kinetics and surface processes -- Particle and energy balance in discharges -- Capacitive discharges -- Inductive discharges -- Wave-heated discharges -- Direct current (DC) discharges -- Etching -- Deposition and implantation -- Dusty plasmas -- Kinetic theory of discharges.
    Weitere Ausg.: Print version: Lieberman, M.A. (Michael A.). Principles of plasma discharges and materials processing. Hoboken, N.J. : Wiley-Interscience, ©2005 ISBN 0471720011
    Sprache: Englisch
    Fachgebiete: Physik
    RVK:
    Schlagwort(e): Electronic books. ; Electronic books. ; Electronic books.
    Bibliothek Standort Signatur Band/Heft/Jahr Verfügbarkeit
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  • 2
    UID:
    b3kat_BV022934060
    Umfang: XXXV, 757 S. , graph. Darst.
    Ausgabe: 2. ed.
    ISBN: 0471720011 , 9780471720010
    Anmerkung: Hier auch später erschienene, unveränderte Nachdrucke
    Sprache: Englisch
    Fachgebiete: Physik
    RVK:
    Schlagwort(e): Plasmadynamik ; Festkörperoberfläche ; Dünne Schicht ; Niederdruckplasma ; Dünnschichttechnik
    Bibliothek Standort Signatur Band/Heft/Jahr Verfügbarkeit
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