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    Analoge Untersuchung der spektralen Empfindlichkeit und relativen Quantenausbeute von elektrophotographischen ZnO-Schichten und photographischen AgBr-Schichten (1969)
    o.O.
    Details
    UID:
    b3kat_BV002960451
    Format: III,100 S.
    Note: München, Diss.
    Language: Undetermined
    Keywords: Hochschulschrift
    Library Location Call Number Volume/Issue/Year Availability
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  • 2
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    Schichten der Empfindlichkeit - Ethnologie im Werk Hubert Fichtes (1989)
    Details
    UID:
    gbv_275283461
    Format: 259 S
    Note: Bonn, Univ., Diss., 1989
    Language: Undetermined
    Keywords: Hochschulschrift
    Library Location Call Number Volume/Issue/Year Availability
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  • 3
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    Schichten der Empfindlichkeit - Ethnologie im Werk Hubert Fichtes (1989)
    Details
    UID:
    b3kat_BV002458578
    Format: 259 S.
    Note: Bonn, Univ., Diss., 1989
    Language: German
    Subjects: German Studies
    RVK:
    GN 4540
    Keywords: Fichte, Hubert 1935-1986 ; Ethnologie ; Hochschulschrift
    Author information: Clement, Hans-Jörg 1961-
    Library Location Call Number Volume/Issue/Year Availability
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  • 4
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    Schichten der Empfindlichkeit : Ethnologie im Werk Hubert Fichtes. (1989)
    Details
    UID:
    almahu_BV002430479
    Format: 259 S.
    Note: Bonn, Univ., Diss.
    Language: German
    Subjects: German Studies
    RVK:
    GN 4540
    Keywords: 1935-1986 Fichte, Hubert ; Ethnologie ; 1935-1986 Fichte, Hubert ; Hochschulschrift
    Author information: Clement, Hans-Jörg, 1961-
    Library Location Call Number Volume/Issue/Year Availability
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  • 5
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    Schichten der Empfindlichkeit - Ethnologie im Werk Hubert Fichtes. (1989)
    Details
    UID:
    almafu_BV002458578
    Format: 259 S.
    Note: Bonn, Univ., Diss., 1989
    Language: German
    Subjects: German Studies
    RVK:
    GN 4540
    Keywords: 1935-1986 Fichte, Hubert ; Ethnologie ; Hochschulschrift
    Author information: Clement, Hans-Jörg 1961-
    Library Location Call Number Volume/Issue/Year Availability
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  • 6
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    Mitteilungen aus den Forschungslaboratorien der Agfa-Gevaert AG, Leverkusen-München (1964)
    Berlin, Heidelberg :Springer Berlin Heidelberg :
    Details
    UID:
    almahu_9948192049902882
    Format: VIII, 475 S. , online resource.
    Edition: 1st ed. 1964.
    ISBN: 9783662125120
    Series Statement: Mitteilungen aus den Forschungslaboratorien der Agfa-Gevaert AG, Leverkusen-München ; 4
    Content: Der vorliegende Band ist Herrn Direktor Dr. Dr. h. c. ]RITZ GAJEWSKI ge­ widmet. Herr Dr. GAJEWSKI kam erstmalig mit der Erzeugung photographischer Produkte in engere Berührung, als der Vorstand der LG. Farbenindustrie A.G. ihn im Jahr 1928 beauftragte, die damalige "Betriebsgemeinschaft Berlin" zu reorganisieren, in der die Werke der "Agfa" mit ihren Produktionsgebieten Photo, Kunstseide und Fasern zusammengeschlossen waren. Als die LG. Farbenindustrie A.G. 1929 im Zuge einer grundlegenden Neuorgani­ sation in drei Sparten gegliedert wurde, war die Betriebsgemeinschaft Berlin der Kern der Sparte IH. Herr Dr. GAJEWSKI übernahm 1931 als Mitglied des Vorstandes und des Zentralausschusses der LG. Farbenindustrie A.G. die gesamte technische Leitung dieser Sparte. Seine großen Leistungen auf dem Kunstseide- und Fasergebiet sind bekannt. Wir verdanken ihm aber vor allem die außerordentlichen Erfolge der Agfa auf dem photo­ graphischen Sektor vor dem 2. Weltkrieg. So veranlaßte er, von der entscheidenden Bedeutung intensiver Forschung frühzeitig überzeugt, die Errichtung des Agfa­ Zentrallaboratoriums. Damit schuf er die Grundlage für bedeutende und zukunfts­ weisende Entwicklungen, von denen das Agfacolor-Verfahren besonders hervor­ gehoben sei.
    Note: Thermodynamische Gesichtspunkte zum photographischen Elementarprozeß -- Zusammenfassung über die heutigen Vorstellungen zur spektralen Sensibilisierung -- Wachstum und Kristalltracht der Silberhalogenidkristalle photographischer Emulsionen -- Zwillingsbildung bei Silberhalogenidkristallen photographischer Emulsionen -- Berechnung der freien Adsorptionsenthalpien von Ag+-Ionen und Halogenionen am Halogensilber aus den isoionischen Punkten -- Ein Beitrag zum Solarisationsverhalten photographischer Silberbromidemulsionen -- Untersuchungen über die topographische Verteilung des latenten Bildes -- Der Aufbau des latenten Bildes bei Blitzfolgebelichtungen -- Das Redoxverhalten des latenten Bildes. Teil I: Das Redoxverhalten der Außenkeime -- Das Redoxverhalten des latenten Bildes. Teil II: Das Redoxverhalten der Innenkeime -- Das Fading bei Licht- und ?-Bestrahlung in Abhängigkeit von der Strahlungsintensität -- Elektrodentheorie der photographischen Entwicklung -- Über die Beweglichkeit der Sulfitionen und Assoziationserscheinungen zwischen Sulfit- und Natriumionen in wäßrigen Lösungen -- Zur Reaktionskinetik des Silbersalzdiffusionsverfahrens -- Die optimale Gradation und die optimale Belichtung von Farbumkehrfilmen -- Statistische Häufigkeit von „guten“ und „schlechten“ photographischen Bildern auf Umkehrfilm -- Wichtige Meßdefinitionen zur Kennzeichnung der Leistungsfähigkeit photographischer Bildaufzeichnungsverfahren -- Zur Berechnung der Körnigkeit, des kleinsten nachweisbaren Kontrastes und der Anzahl der nachweisbaren Helligkeitsstufen photographischer Schichten -- Zur Messung der Körnigkeit und des Wiener-Spektrums photographischer Schichten -- Zur Praxis der Modulationsübertragungsfunktion -- Umrechnungs- und Näherungsmethoden zur Bestimmung der Modulationsübertragungsfunktion von photographischen Schichten aus Rechteckrastern -- Ein Mikrophotometer zur direkten Darstellung der Kontrastwiedergabefunktion von photographischen Schichten -- Zur Chemie der Weißkuppler -- 4,4?-Bis-dialkylamino-azobenzole. Ein Beitrag zur oxydativen Kupplung der p-Phenylendiamine -- Azomethinfarbstoffe von Pyrazolonen und Pyrazolobenzimidazolen -- Absorption und Sensibilisierung von Oxonolen in Abhängigkeit vom pH-Wert -- Entwicklereigenschaften von Azolamino-hydroxythiazolen -- Zur Anfärbung von Gelatine mit Reaktivfarbstoffen -- Die Identifizierung hydrophiler Substituenten in organischen Verbindungen durch Chromatographie bei verschiedenen pH-Werten -- Kopiereffekte schichtförmiger Magnetspeicher -- Magnetbeschichtung von Bildfilmen im Kaschierverfahren -- Protonen als Ladungsträger der elektrischen Leitfähigkeit und der Photoleitfähigkeit von Anthracen-Kristallen -- Über den Zusammenhang zwischen der spektralen Empfindlichkeit von photoelektronischen Empfängern und deren photometrischen Eigenschaften -- Über den Wirkungsgrad von Belichtungssystemen photographischer Kopiergeräte -- Quellenverzeichnis der Arbeiten dieses Bandes, die ganz oder teilweise bereits anderweitig veröffentlicht sind.
    In: Springer eBooks
    Additional Edition: Printed edition: ISBN 9783662125137
    Additional Edition: Printed edition: ISBN 9783540031888
    Language: German
    DOI: 10.1007/978-3-662-12512-0
    URL: https://doi.org/10.1007/978-3-662-12512-0
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    HU Berlin
  • 7
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    Lichtelektrische Erscheinungen : Band 8 (1928)
    Berlin, Heidelberg :Springer Berlin Heidelberg :
    Details
    UID:
    almahu_9948192255802882
    Format: X, 328 S. , online resource.
    Edition: 1st ed. 1928.
    ISBN: 9783642907432
    Series Statement: Struktur der Materie in Einzeldarstellungen ; 8
    Content: Dieser Buchtitel ist Teil des Digitalisierungsprojekts Springer Book Archives mit Publikationen, die seit den Anfängen des Verlags von 1842 erschienen sind. Der Verlag stellt mit diesem Archiv Quellen für die historische wie auch die disziplingeschichtliche Forschung zur Verfügung, die jeweils im historischen Kontext betrachtet werden müssen. Dieser Titel erschien in der Zeit vor 1945 und wird daher in seiner zeittypischen politisch-ideologischen Ausrichtung vom Verlag nicht beworben.
    Note: I. Einleitung -- Begriffsbestimmung und Einteilung -- Geschichtliche Entwicklung -- II. Äußere lichtelektrische Wirkung -- Übersicht, Einteilung und Fragestellungen -- Allgemeines zur Versuchstechnik -- Bestimmung der Elektronenzahl im Vakuum -- Lichtelektrische Ströme in Gasen verschiedenen Druckes -- Messung von Elektronengeschwindigkeiten -- Schwebekondensator -- Spitzenzähler und verwandte Anordnungen -- III. „Normale“ äußere lichtelektrische Wirkung an metallischen Oberflächen -- Elektronenzahl und Lichtintensität -- Allgemeiner Verlauf der „spektralen Verteilung“ -- Die Elektronengeschwindigkeiten -- Die „langwellige Grenze“ -- Quantenbeziehungen -- Die sogenannte „Empfindlichkeit“ -- Die lichtelektrische Wirkung „schwarzer Strahlung“ -- Metallverbindungen mit Elektronenleitung -- IV. Äußere Beeinflussung des Elektronenaustrittes -- Allgemeiner Einfluß der Gase -- Anlagerungsschichten -- Die Wirkung von Gasaufnahme -- Die sogenannte „Ermüdung“ -- Temperatureinfluß -- Einwirkung von Kathodenstrahlen -- Abhängigkeit von magnetischen und elektrischen Feldern -- Einfluß elektrischer Ströme -- V. Dünne Schichten -- Grundsätzliche Bedeutung dünner Schichten -- Die lichtelektrisch wirksame Schichtdicke -- Geschwindigkeitsverteilung und Austrittsrichtung -- Alkalimetallhäute -- VI. „Selektive“ äußere lichtelektrische Wirkung -- Beschreibung und Begriffsbestimmung -- Selektiver Effekt in der Alkali- und Erdalkaligruppe -- Der Sonderfall des Ca -- Selektive Effekte außerhalb der Alkali- und Erdalkaligruppe -- Vektoreinfluß ohne spektrale Selektivität -- Gaseinfluß -- Temperatureinfluß -- Grenzschichten -- Austrittsgeschwindigkeiten -- Die optischen Eigenschaften -- Zusammenfassung und Deutungsversuche -- VII. Äußere lichtelektrische Wirkung an nichtmetallischen Oberflächen -- Feste Elektrolyte und Isolatoren -- Nichtmetallische Flüssigkeiten -- VIII. Anwendungen äußerer lichtelektrischer Wirkung -- Allgemeine Bemerkungen -- Die lichtelektrischen Zellen -- Anwendungen lichtelektrischer Zellen -- Lichtelektrische Wirkung und Elektrizitätsleitung in Gasen -- IX. Sonstiges über äußere lichtelektrische Wirkung -- Äußere lichtelektrische Wirkung an der Grenze Metall-Flüssigkeit -- Lichtelektrische Abtrennung positiver Ladungen -- Beeinflussung der Elektronenreflexion durch Licht -- X. Innere lichtelektrische Wirkung. Lichtelektrische Leitung in isolierenden Kristallen -- Leitfähigkeitsänderungen und licht elektrische Ströme -- Der lichtelektrische Primärstrom -- Die lichtelektrisch leitenden Kristalle und die spektrale Verteilung -- Quantenbeziehung -- Einfluß von Temperatur und Magnetfeld auf den Primärstrom -- Bedeutung von Beimengungen und Gitterstörungen für den Primärstrom -- „Sekundärstrom“ -- Lichtelektrische Leitung in Kristallen mit Fremdfärbung -- XI. Lichtelektrische Leitung in kristallinen Halbleitern (ohne Selen) -- Stoffe und Beobachtungsverfahren -- Die Untersuchungen von W. W. Coblentz an Sulfiden -- Sonstige Beobachtungen an kristallinen Halbleitern -- XII. Das Selen -- Einführung -- Das rote isolierende Selen -- Kristalle metallischen Selens -- Die Selenzellen und ihre Eigenschaften -- Anwendungen der Selenzellen -- XIII. Sonstige Fälle innerer lichtelektrischer Wirkung -- Zusammenhang mit Fluoreszenz und Phosphoreszenz -- Zusammenhang mit Verfärbung -- Zusammenhang mit Photochemie -- Lichtelektrische Leitung in Flüssigkeiten -- XIV. Innere lichtelektrische Wirkung in Gasen -- Allgemeines -- Die Alkalimetalldämpfe -- Quecksilberdampf -- Zwei- und mehratomige Gase -- XV. Lichtelektrische Wirkung hoher Frequenzen -- Einführung -- Zur Versuchstechnik -- Die Geschwindigkeiten der Absorptionselektronen -- Die Rückstoß-elektronen (Comptoneffekt) -- Richtungsverteilung von Absorptions- und Rückstoßektronen -- Lichtelektrische Vielfachwirkung -- Die Ausbeute an Absorptions- und Rückstoßelektronen -- Lichtelektrische Wirkung hoher Frequenzen im Innern fester Körper -- Anwendungen -- XVI. Sonstige Erscheinungen mit vermutlich lichtelektrischer Grundlage -- Becquereleffekt -- Auftreten elektromotorischer Kräfte bei Belichtung von Kristallen -- Phototropie -- Der Weigerteffekt -- Arbeitenverzeichnis -- Namenverzeichnis -- Wichtige Zahlen und Umrechnungen.
    In: Springer eBooks
    Additional Edition: Printed edition: ISBN 9783642888885
    Language: German
    DOI: 10.1007/978-3-642-90743-2
    URL: https://doi.org/10.1007/978-3-642-90743-2
    Library Location Call Number Volume/Issue/Year Availability
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    HU Berlin
  • 8
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    Elektronen-Übermikroskopie : Physik · Technik · Ergebnisse (1940)
    Berlin, Heidelberg :Springer Berlin Heidelberg :
    Details
    UID:
    almahu_9948192523002882
    Format: XVI, 396 S. , online resource.
    Edition: 1st ed. 1940.
    ISBN: 9783642473487
    Content: Dieser Buchtitel ist Teil des Digitalisierungsprojekts Springer Book Archives mit Publikationen, die seit den Anfängen des Verlags von 1842 erschienen sind. Der Verlag stellt mit diesem Archiv Quellen für die historische wie auch die disziplingeschichtliche Forschung zur Verfügung, die jeweils im historischen Kontext betrachtet werden müssen. Dieser Titel erschien in der Zeit vor 1945 und wird daher in seiner zeittypischen politisch-ideologischen Ausrichtung vom Verlag nicht beworben.
    Note: A. Allgemeine Grundlagen -- I. Eigenschaften der Elektronenstrahlung -- II. Elektrostatische Sammellinsen -- III. Magnetische Sammellinsen -- IV. Die Elektronenquelle -- V. Elektronenindikatoren -- B. Die theoretischen Grundlagen des Elektronenmikroskopes -- I. Wirkungsweise -- II. Die Grenzen für das Auflösungsvermögen -- C. Die theoretischen Grundlagen der Elektronensonden-Mikroskope -- I. Wirkungsweise -- II. Die Grenzen für das Auflösungsvermögen -- D. Elektronenstrahlung und Objekt -- I. Die durch Elektronenstreuung im Objekt verursachten Abbildungsfehler und ihr Verhältnis zueinander -- II. Die Größe der Objektbelastung -- III. Die Empfindlichkeit lebender Substanz gegen Elektronenbestrahlung -- E. Wichtige Größen für die Dimensionierung von Elektronenmikroskopen -- I. Die Größe und Abschirmung störender Magnetfelder -- II. Das Auflösungsvermögen photographischer Schichten für Elektronenstrahlung -- III. Das Auflösungsvermögen von Leuchtschirmen für Elektronenstrahlung -- IV. Die Abschirmung schädlicher Röntgenstrahlung -- F. Bauelemente und Hilfseinrichtungen der Elektronenmikroskope -- I. Das Kathodensystem -- II. Die kurzbrennweitigen Elektronenlinsen -- III. Die Objekthalterungen und Objektschleusen -- IV. Kamera und Photomaterialschleuse -- V. Blenden und Bohrvorrichtungen für kleinste Blendlöcher -- G. Die Vakuumtechnik der Elektronenmikroskope -- I. Das erforderliche Vakuum -- II. Die Pumpanlage -- III. Vakuummessung und Suche nach Undichtigkeiten -- IV. Vakuumtechnische Konstruktionselemente -- H. Die Hochspannungsanlagen der Elektronenmikroskope -- I. Die Messung von Schwankungen der Hochspannung -- II. Hochspannungsanlagen großer Spannungskonstanz -- J. Die praktische Ausführung des Elektronenmikroskopes -- I. Die Dimensionierung -- II. Die Gesamtkonstruktion -- III. Das Kondensorsystem -- IV. Das Objekt- und Objektivsystem -- V. Das Projektionslinsensystem -- VI. Die Kamera -- VII. Die Scharfstellung -- K. Die praktische Ausführung der Elektronensonden-Mikroskope -- I. Die Dimensionierung -- II. Herstellung der Elektronensonde -- III. Herstellung des Objektrasters beim Rastermikroskop -- IV. Die Registriereinrichtung der Sondenmikroskope -- V. Die Scharfstellung der Sondenmikroskope -- L. Objektpräparierungstechnik -- I. Die verschiedenen Arten elektronenmikroskopischer Präparate -- II. Die Keilschnittmethode zur Herstellung von Mikrotomschnitten mit weniger als 10?3 mm Stärke -- III. Objekte auf Folien -- IV. Die Verwendung der Strahlungssonden für Mikromanipulationen -- M. Die Bestimmung des Auflösungsvermögens -- I. Die verschiedenen Methoden -- II. Die praktische Durchführung der Bestimmung -- N. Stereo-Elektronenmikroskopie -- I. Die Grundlagen -- II. Verschiedene Anordnungen zur Gewinnung stereoskopischer Teilbilder bei Elektronenmikroskopen -- O. Die Ergebnisse der Elektronen-Übermikroskopie auf den verschiedenen Anwendungsgebieten -- I. Die Anwendung des Elektronenmikroskopes auf physikalische, chemische und technische Probleme -- II. Die Anwendung des Elektronenmikroskopes in Biologie und Medizin -- P. Namen- und Sachverzeichnis.
    In: Springer eBooks
    Additional Edition: Printed edition: ISBN 9783642471032
    Language: German
    DOI: 10.1007/978-3-642-47348-7
    URL: https://doi.org/10.1007/978-3-642-47348-7
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    HU Berlin
  • 9
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    Die Sensitometrie, photographische Photometrie und Spektrographie : (die Schwärzungsgesetze photographischer Schichten, Normallichtquellen, Prüfung der Empfindlichkeit, Gradation des Spielraumes der Belichtung, des Kopierumfanges und der Bildschärfe. Sensitometrie der Röntgenstrahlen) (1930)
    Halle (Saale) : Verlag von Wilhelm Knapp
    Details
    UID:
    gbv_1687506973
    Format: XV, 611 Seiten , Illustrationen, Diagramme , Digitalisierungsvorlage: Original
    Edition: Dritte, gänzlich umgearbeitete und vermehrte Auflage
    Edition: Online-Ausgabe Hannover Technische Informationsbibliothek (TIB) 2020 1 Online-Ressource
    Series Statement: Ausführliches Handbuch der Photographie / von Hofrat Dr. Josef Maria Eder, o. em. Professor für Photochemie an der technischen Hochschule in Wien, em. Direktor der graphischen Lehr- und Versuchsanstalt in Wien, wirkl. Mitglied der Akademie der Wissenschaften in Wien und der kais. leopoldinisch-carolinischen deutschen Akademie der Naturforscher in Halle a. S. 3. Band, 4. Teil
    Note: Technische Informationsbibliothek (TIB)
    Additional Edition: Elektronische Reproduktion von Technische Informationsbibliothek (TIB) -- a 882(3,4),3 Eder, Josef Maria, 1855 - 1944 Ausführliches Handbuch der Photographie ; 3. Band, 4. Teil: Die Sensitometrie, photographische Photometrie und Spektrographie Halle (Saale) : Verlag von Wilhelm Knapp, 1930
    Language: German
    DOI: 10.14463/KXP:1687506973
    URL: kostenfrei
    Author information: Eder, Josef Maria 1855-1944
    Library Location Call Number Volume/Issue/Year Availability
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    Stabi Berlin
  • 10
    Book
    Book
    Die Sensitometrie, photographische Photometrie und Spektrographie : (die Schwärzungsgesetze photographischer Schichten, Normallichtquellen, Prüfung der Empfindlichkeit, Gradation des Spielraumes der Belichtung, des Kopierumfanges und der Bildschärfe - Sensitometrie der Röntgenstrahlen) (1930)
    Halle (Saale) : Verlag von Wilhelm Knapp
    Details
    UID:
    gbv_134984803
    Format: XV, 611 Seiten , Illustrationen
    Edition: Dritte, gänzlich umgearbeitete und vermehrte Auflage
    Series Statement: Ausführliches Handbuch der Photographie / von Hofrat Dr. Josef Maria Eder 3. Band, 4. Teil
    Additional Edition: Elektronische Reproduktion Eder, Josef Maria, 1855 - 1944 Ausführliches Handbuch der Photographie ; 3. Band, 4. Teil: Die Sensitometrie, photographische Photometrie und Spektrographie Halle (Saale) : Verlag von Wilhelm Knapp, 1930
    Language: German
    Author information: Eder, Josef Maria 1855-1944
    Library Location Call Number Volume/Issue/Year Availability
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