In:
tm - Technisches Messen, Walter de Gruyter GmbH, Vol. 85, No. 2 ( 2018-2-23), p. 88-96
Kurzfassung:
Das Verfahren der Scatterometrie bietet das Potenzial periodische
Nanostrukturen wie z. B. Gitter prozessintern zu prüfen. Allerdings liefert es keine Topografiedatensätze,
sondern nur Oberflächenparameter wie z. B. die Stegbreite einer Nanostruktur und dies auch nur, sofern der Zusammenhang zwischen
Streulichtverteilung und Oberflächenparametern durch Untersuchungen bekannt ist. Dieser Beitrag beschreibt einen
Scatterometrie-Ansatz zur nanometergenauen In-Prozess-Erfassung der lokalen Höhen eines sinusförmigen Nanogitters. Da der
Zusammenhang zwischen der Gitterhöhe und der resultierenden Streulichtverteilung nicht bekannt war, wurde der Streuprozess mit
einem numerischen Modell für unterschiedliche Oberflächen und Messparameter simuliert. Im Ergebnis ergaben sich ein Messaufbau und
eine Messmethodik, mit denen eine eineindeutige Messung der Gitterhöhe bis 500 nm erreicht wurde. Zusätzlich
wurde die Unsicherheit des Messansatzes basierend auf den Simulationsergebnissen für unterschiedliche Mess- und
Simulationsparameter, wie z. B. den Einfallswinkel und die Laserwellenlänge, untersucht. Die resultierende Messunsicherheit
der Gitterhöhe ist gegenwärtig durch unbekannte systematische Messabweichungen limitiert und beträgt bei der Verwendung von
Laserlicht im sichtbaren Wellenlängenbereich ≤ 8 nm. Eine experimentelle Überprüfung des Messansatzes mit einem Laboraufbau konnte die Sensitivität für
die Identifizierung von lokalen Abweichungen der Gitterhöhe belegen. Bei der Verwendung eines angepassten Detektionssystems
für die Streulichtverteilung sind prinzipiell Messraten bis in den MHz-Bereich erreichbar, so dass der Ansatz für
In-Prozess-Anwendungen geeignet ist.
Materialart:
Online-Ressource
ISSN:
2196-7113
,
0171-8096
DOI:
10.1515/teme-2017-0093
Sprache:
Englisch
Verlag:
Walter de Gruyter GmbH
Publikationsdatum:
2018
ZDB Id:
2025790-9
SSG:
15,3
