UID:
almahu_9948193428002882
Format:
XV, 286 S. 58 Abb.
,
online resource.
Edition:
1st ed. 1991.
ISBN:
9783642876790
Series Statement:
WFT Werkstoff-Forschung und -Technik, 6
Note:
1 Oberflächenmodifikation — ein Überblick -- 1.1 Einleitung -- 1.2 Laserstrahl-Verfahren -- 1.3 Ionenstrahl-Verfahren -- 1.4 Elektronenstrahl-Verfahren -- 1.5 Plasma-Verfahren -- 1.6 Diamantschichten-Herstellung als Anwendung der Plasma- und der Ionenstrahltechnik -- 1.7 Mikrotechnologien als Anwendung von Methoden der Oberflächenund Dünnschicht-Technologie -- 1.8 Konventionelle Verfahren der Oberflächenmodifikation -- 2 Modifizierung von Oberflächen durch Laserstrahl-Verfahren -- 2.1 Überblick -- 2.2 Laser für die Materialbearbeitung -- 2.3 Wechselwirkung zwischen Strahlung und Werkstoff -- 2.4 Laserinduzierte chemische Reaktionen an Oberflächen -- 2.5 Anwendungen in der Materialbearbeitung -- 2.6 Anwendungen in der Elektronik- und Dünnschicht-Technologie -- 3 Modifizierung von Oberflächen durch Ionenstrahl-Verfahren -- 3.1 Einleitung -- 3.2 Grundlagen der Ionenimplantation -- 3.3 Implantation von Ionen in Halbleiter -- 3.4 Implantation von Ionen in Metalle -- 3.5 Ionenimplantation in Isolatoren und Polymere -- 4 Modifizierung von Oberflächen durch Elektronenstrahl-Verfahren -- 4.1 Einleitung -- 4.2 Wirkungen des Elektronenstrahls auf die Materie -- 4.3 Vergleich der Wechselwirkung von Elektronen- und Laserstrahlen mit einem Target -- 4.4 Thermische Elektronenstrahlverfahren -- 4.5 Nichtthermische Elektronenstrahlverfahren -- 4.6 Anwendungen von strahlenchemischen Wirkungen der Elektronenstrahlen -- 5 Modifizierung von Oberflächen durch Plasma-Verfahren -- 5.1 Einleitung -- 5.2 Erzeugung von Mikrowellen-Plasmen -- 5.3 ECR-Mikrowellen-Ionenquellen -- 5.4 Anwendungen der Plasmatechnik -- 6 Diamantschichten-Herstellung als Anwendung der Plasma- und der Ionenstrahltechnik -- 6.1 Zur Entwicklung des Arbeitsgebietes -- 6.2 Wachstum der Diamantschichten -- 6.4 Über die Rolle des Wasserstoffes bei der CVD-Diamant-Abscheidung -- 6.4 Diamant-Abscheidung durch Ionenstrahl-Technik -- 6.5 Eigenschaften und Anwendungen von Diamantschichten -- 7 Mikrotechnologien als Anwendung von Methoden der Oberflächen- und Dünnschicht-Technologie -- 7.1 Einleitung -- 7.2 Herstellung von Siliciumscheiben -- 7.3 Dotierung von Halbleitern -- 7.4 Schichttechnik -- 7.5 Lithographie -- 7.6 Ätztechnik -- 7.7 Anwendungen in der MOS-Technologie -- 7.8 Weitere Mikrotechnologien -- 8 Anhang: Die konventionellen Verfahren des Randschichthärtens von Metallen -- 8.1 Mechanische Verfahren -- 8.2 Thermische Verfahren zum Randschichthärten -- 8.3 Thermochemische Diffusionsverfahren -- Literatur.
In:
Springer eBooks
Additional Edition:
Printed edition: ISBN 9783540530121
Language:
German
DOI:
10.1007/978-3-642-87679-0
URL:
https://doi.org/10.1007/978-3-642-87679-0
