Format:
Online-Ressource
ISBN:
9783862197156
Content:
Front cover -- Titelseite -- Impressum -- Zusammenfassung -- Inhaltsverzeichnis -- Motivation und Zielsetzung -- Motivation -- Zielsetzung -- Strukturierung der Arbeit -- Optische und mechanische Eigenschaften von Dünnschichtsystemen -- Licht als elektromagnetische Welle -- Verhalten an idealer Grenzfläche -- Fresnelsche Gleichungen -- Eigenschaften dünner Schichten -- Interferenz -- Eigenschaften von Dünnschichtstapeln -- Transfer-Matrix-Methode -- Periodische Vielschichtsysteme -- Grundlagen zum Fabry-Pérot-Interferometer -- Kenngrößen des Fabry-Pérot-Interferometers
Content:
Mechanische Eigenschaften dünner Schichten -- Bestimmung der Schichtverspannung -- Multischichtsysteme -- Freistehende Strukturen -- Mikromechanische Strukturen -- Optische Filter -- Absorptions- und Interferenzfilter -- Filterklassen -- Verwendete Herstellungs- und Charakterisierungstechnologien -- Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung -- Funktionsprinzip -- Plasmalab 80 Plus -- Polymertechnologie -- Fotolithographie -- Ätzverfahren -- Nasschemisches Ätzverfahren -- Trockenätzverfahren -- Weißlichtinterferometrie -- Rasterelektronenmikroskopie -- Optischer Messplatz
Content:
Stand der Forschung zum Thema miniaturisierte Spektrometer -- Gitterbasierte miniaturisierte Spektrometer -- Interferometerbasierte miniaturisierte Spektrometer -- Filterfeld-basierte miniaturisierte Spektrometer -- Entwicklung des stressreduzierten Filterdesigns -- Basis und Filterstruktur -- Referenz-Design -- Geometrie der Filterstrukturen -- Standard-Design -- Prozessparameter der Si3N4-Schichten -- Adaption der oberen Elektrode -- Stressreduziertes Design -- Konzept -- Carrier-Layer -- Prozessablauf beim stressreduzierten Design -- Top-Elektroden-Maske -- Lichtschutzschicht
Content:
Spektralanalyse und Aktuation -- Diskussion -- Anpassung des Unterätzprozesses mit Implementierung einer Schutzschicht -- Ansatz und Methodik -- Prozessführung -- Methodik -- Verwendung der Fotolacke AZ1518 und AZ4562 als Schutzschicht -- SiO2 als Schutzschicht-Material -- Diskussion -- Erweiterung des Filtersystems zur Nutzung eines breiten Spektralbereichs -- Prozessablauf -- Bottom-Schichtsystem -- Top-Schichtsystem -- Filter-Strukturierung -- Schichthomogenität bei vorstrukturierten Oberflächen -- Strukturanalyse -- Diskussion
Content:
Integration eines optischen Filters zur Adaption an spezifische Anwendungen -- Kombination aus Langpass- und Kurzpassfiltern -- Filterkombination -- Diskussion -- State-of-the-art-Filter zur Erweiterung des konfokalen Messaufbaus -- Breitband-Filterdesign -- Luftspaltfilter -- Filterstack -- Reflexions-Kaltlichtspiegel -- Diskussion -- Zusammenfassung -- Ausblick -- Anhang -- Prozesse -- Depositionsparameter Siliziumnitrid -- Depositionsparameter Siliziumdioxid -- Lithographie Fotolack-Schutzschicht -- Lithographie Siliziumdioxid-Schutzschicht
Content:
Prozessparameter Trockenätzprozess Castor und Pollux RIE
Note:
Lizenzpflichtig
,
Zugl.: Kassel, Univ., Diss., 2012
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""Front cover ""; ""Titelseite ""; ""Impressum ""; ""Zusammenfassung""; ""Inhaltsverzeichnis""; ""Motivation und Zielsetzung""; ""Motivation""; ""Zielsetzung""; ""Strukturierung der Arbeit""; ""Optische und mechanische Eigenschaften von D�nnschichtsystemen""; ""Licht als elektromagnetische Welle""; ""Verhalten an idealer Grenzfl�che""; ""Fresnelsche Gleichungen""; ""Eigenschaften d�nner Schichten""; ""Interferenz""; ""Eigenschaften von D�nnschichtstapeln""; ""Transfer-Matrix-Methode""; ""Periodische Vielschichtsysteme""; ""Grundlagen zum Fabry-Pérot-Interferometer""
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""Kenngrößen des Fabry-Pérot-Interferometers""""Mechanische Eigenschaften d�nner Schichten""; ""Bestimmung der Schichtverspannung""; ""Multischichtsysteme""; ""Freistehende Strukturen""; ""Mikromechanische Strukturen""; ""Optische Filter""; ""Absorptions- und Interferenzfilter""; ""Filterklassen""; ""Verwendete Herstellungs- und Charakterisierungstechnologien""; ""Plasmaunterst�tzte chemische Gasphasenabscheidung""; ""Funktionsprinzip""; ""Plasmalab 80 Plus""; ""Polymertechnologie""; ""Fotolithographie""; ""�tzverfahren""; ""Nasschemisches �tzverfahren""; ""Trocken�tzverfahren""
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""Weißlichtinterferometrie""""Rasterelektronenmikroskopie""; ""Optischer Messplatz""; ""Stand der Forschung zum Thema miniaturisierte Spektrometer""; ""Gitterbasierte miniaturisierte Spektrometer""; ""Interferometerbasierte miniaturisierte Spektrometer""; ""Filterfeld-basierte miniaturisierte Spektrometer""; ""Entwicklung des stressreduzierten Filterdesigns""; ""Basis und Filterstruktur""; ""Referenz-Design""; ""Geometrie der Filterstrukturen""; ""Standard-Design""; ""Prozessparameter der Si3N4-Schichten""; ""Adaption der oberen Elektrode""; ""Stressreduziertes Design""; ""Konzept""
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""SchichthomogenitÃ?t bei vorstrukturierten OberflÃ?chen""""Strukturanalyse""; ""Diskussion""; ""Integration eines optischen Filters zur Adaption an spezifische Anwendungen""; ""Kombination aus Langpass- und Kurzpassfiltern""; ""Filterkombination""; ""Diskussion""; ""State-of-the-art-Filter zur Erweiterung des konfokalen Messaufbaus""; ""Breitband-Filterdesign""; ""Luftspaltfilter""; ""Filterstack""; ""Reflexions-Kaltlichtspiegel""; ""Diskussion""; ""Zusammenfassung""; ""Ausblick""; ""Anhang""; ""Prozesse""; ""Depositionsparameter Siliziumnitrid""; ""Depositionsparameter Siliziumdioxid""
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""Lithographie Fotolack-Schutzschicht""
Additional Edition:
ISBN 9783862197149
Additional Edition:
Erscheint auch als Druck-Ausgabe Integration optischer Filter mit strukturierten mikromechanisch abstimmbaren Sensor-Arrays mittels Dünnschichtdeposition und Nanostrukturierung, 2. korrigierte Auflage
Language:
German
Keywords:
Spektrometer
;
Miniaturisierung
;
Fabry-Pérot-Interferometer
;
Optisches Filter
;
Verteilte Bragg-Reflexion
;
Sensor-Array
;
Electronic books
;
Hochschulschrift
URN:
urn:nbn:de:0002-37155
URL:
Volltext
(lizenzpflichtig)
Author information:
Schultz, Karin 1984-
