Format:
172 S.
,
Ill., graph. Darst.
Note:
Kassel, Univ., Diss., 1988
Language:
German
Keywords:
MIS
;
Kondensator
;
Drift
;
Drift
;
Siliciumdioxid
;
Indiumphosphid
;
Oberfläche
;
MIS
;
Indiumphosphid
;
Siliciumdioxid
;
PECVD-Verfahren
;
Hochschulschrift
Author information:
Kulisch, Wilhelm 1957-